On the Reuse of RTL IPs for SysML Model Generation

Author(s):  
Nicola Bombieri ◽  
Emad Samuel Malki Ebeid ◽  
Franco Fummi ◽  
Michele Lora
Keyword(s):  
2020 ◽  
Vol 96 (3s) ◽  
pp. 756-757
Author(s):  
Е.С. Шамин ◽  
Е.Л. Харченко

Данная работа посвящена описанию возможного алгоритма создания моделей резиста с постоянным порогом и расчета окон процесса на их основе. Приведенные изыскания реализованы в виде программного средства, использующего средства моделирования фотолитографии Mentor Graphics Calibre. This work is dedicated to the description of one of possible algorithms of constant threshold resist model generation used for photolithography process window calculation. This algorithm has been realized in the form of a program using Mentor Graphics Calibre modeling tools.


2009 ◽  
Vol 87 (1-2) ◽  
pp. 156-169 ◽  
Author(s):  
Stefano Corazza ◽  
Lars Mündermann ◽  
Emiliano Gambaretto ◽  
Giancarlo Ferrigno ◽  
Thomas P. Andriacchi

Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document