АЛГОРИТМ РАСЧЕТА ОКОН ПРОЦЕССА ФОТОЛИТОГРАФИИ НА ОСНОВЕ МОДЕЛИ РЕЗИСТА С ПОСТОЯННЫМ ПОРОГОМ
Данная работа посвящена описанию возможного алгоритма создания моделей резиста с постоянным порогом и расчета окон процесса на их основе. Приведенные изыскания реализованы в виде программного средства, использующего средства моделирования фотолитографии Mentor Graphics Calibre. This work is dedicated to the description of one of possible algorithms of constant threshold resist model generation used for photolithography process window calculation. This algorithm has been realized in the form of a program using Mentor Graphics Calibre modeling tools.
Keyword(s):
Keyword(s):
2019 ◽
Vol 16
(7)
◽
pp. 808-817
◽
Keyword(s):
Keyword(s):