scholarly journals Изучение многополосного экситонного спектра ZnSe в области 477-490 нм

Author(s):  
Н.К. Морозова ◽  
И.И. Аббасов ◽  
Е.М. Гаврищук ◽  
М.А. Мусаев ◽  
Дж.И. Гусейнов ◽  
...  

Изучены спектры фотолюминесценции поликристаллического CVD (chemical vapour deposition) ZnSe, выращенного с большим избытком селена и содержащего комплексы \O*Se-Cu+i\ на дефектах упаковки. Измерено поглощение, дополняющее эти данные. Рассмотрены особенности спектров фотолюминесценции по сравнению с катодолюминесценцией. Показано, что идентичные полосы фотолюминесценции наблюдаются как несколько более коротковолновые, чем полосы катодолюминесценции. Для исследованных кристаллов представлена зонная модель согласно результатам, полученным в данной работе. Длинноволновое смещение спектров фотолюминесценции при уменьшении энергии возбуждения соответствует сдвигу по энергетической шкале зонной модели с соответствующим изменением типа излучательных переходов. Внесены изменения, определяющие природу группы эквидистантных полос 477-490 нм, характерных для образцов ZnSe с избытком кислорода и Se. Результаты могут быть полезны для более полного изучения структуры многофононных экситонных спектров фото- и катодолюминесценции кристаллов АIIВVI. Ключевые слова: зонная модель, узколинейчатые многофононные спектры, экситонное излучение, дефекты упаковки, изоэлектронная примесь кислорода, несущая эффективный отрицательный заряд.

1999 ◽  
Vol 09 (PR8) ◽  
pp. Pr8-395-Pr8-402 ◽  
Author(s):  
B. Armas ◽  
M. de Icaza Herrera ◽  
C. Combescure ◽  
F. Sibieude ◽  
D. Thenegal

1999 ◽  
Vol 09 (PR8) ◽  
pp. Pr8-373-Pr8-380 ◽  
Author(s):  
P. Sourdiaucourt ◽  
A. Derré ◽  
P. Delhaès ◽  
P. David

2020 ◽  
Author(s):  
Polla Rouf ◽  
Pitsiri Sukkaew ◽  
Lars Ojamäe ◽  
Henrik Pedersen

<p>Aluminium nitride (AlN) is a semiconductor with a wide range of applications from light emitting diodes to high frequency transistors. Electronic grade AlN is routinely deposited at 1000 °C by chemical vapour deposition (CVD) using trimethylaluminium (TMA) and NH<sub>3</sub> while low temperature CVD routes to high quality AlN are scarce and suffer from high levels of carbon impurities in the film. We report on an ALD-like CVD approach with time-resolved precursor supply where thermally induced desorption of methyl groups from the AlN surface is enhanced by the addition of an extra pulse, H<sub>2</sub>, N<sub>2</sub> or Ar between the TMA and NH<sub>3</sub> pulses. The enhanced desorption allowed deposition of AlN films with carbon content of 1 at. % at 480 °C. Kinetic- and quantum chemical modelling suggest that the extra pulse between TMA and NH<sub>3</sub> prevents re-adsorption of desorbing methyl groups terminating the AlN surface after the TMA pulse. </p>


1985 ◽  
Vol 21 (20) ◽  
pp. 903 ◽  
Author(s):  
L.J. Mawst ◽  
G. Costrini ◽  
C.A. Zmudzinski ◽  
M.E. Givens ◽  
M.A. Emanuel ◽  
...  

Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document