scholarly journals Изотипные гетероструктуры n-AlGaAs/n-GaAs, оптимизированные для эффективной межзонной излучательной рекомбинации при накачке электрическим током

Author(s):  
О.С. Соболева ◽  
С.О. Слипченко ◽  
Н.А. Пихтин
Keyword(s):  

Проведен анализ транспорта носителей заряда при накачке током изотипной AlGaAs/GaAs-гетероструктуры, оптимизированной для эффективной межзонной излучательной рекомбинации. Для анализа особенностей транспорта носителей заряда использовались модели: дрейф-диффузионная, дрейф-диффузионная с полевой зависимостью подвижности, а также энергетического баланса. Показано, что при низких токах уровень излучательной рекомбинации в активной области выше в модели энергетического баланса из-за более эффективного накопления носителей, генерируемых посредством ударной ионизации. Это объясняется наличием на гетерогранице эффекта "velocity overshoot", возникающего из-за резкого изменения концентрации электронов и электрического поля на гетеропереходе, тогда как в дрейф-диффузионном приближении скорость дрейфа в данной области равна насыщенной, и наблюдается снижение потенциального барьера из-за накопления большой концентрации электронов вблизи гетероперехода. При токах >40 А уровень излучательной рекомбинации в активной области выше в дрейф-диффузионнном приближении, что объясняется более высокими значениями напряженности поля и темпа ударной ионизации в слое с доменом электрического поля. Продемонстрировано увеличение тока излучательной рекомбинации в активной области более чем на 50% до 13.5 А (при токе накачки 100 А) и максимальной внутренней квантовой эффективности до 16% (при токе 40 А) при уменьшении толщины слоя накопления неравновесных носителей заряда до 100 нм. Ключевые слова: гетероструктуры, изотипные структуры, ударная ионизация, модель энергетического баланса, излучательная рекомбинация.

1998 ◽  
Author(s):  
Kong-Thon F. Tsen ◽  
David K. Ferry ◽  
Jyh-Shyang Wang ◽  
Chao-Hsiung Huang ◽  
Hao-Hsiung Lin

1996 ◽  
pp. 501-504
Author(s):  
E. D. Grann ◽  
K. T. Tsen ◽  
D. K. Ferry ◽  
A. Salvador ◽  
A. Botcharev ◽  
...  

1984 ◽  
Vol 106 (3) ◽  
pp. 552-557 ◽  
Author(s):  
K. V. Rao ◽  
B. F. Armaly ◽  
T. S. Chen

Laminar mixed forced and free convection from a line thermal source imbedded at the leading edge of an adiabatic vertical surface is analytically investigated for the cases of buoyancy assisting and buoyancy opposing flow conditions. Temperature and velocity distributions in the boundary layer adjacent to the adiabatic surface are presented for the entire range of the buoyancy parameter ξ (x) = Grx/Rex5/2 from the pure forced (ξ(x) = 0) to the pure free (ξ(x) = ∞) convection regime for fluids having Prandtl numbers of 0.7 and 7.0. For buoyancy-assisting flow, the velocity overshoot, the temperature, and the wall shear stress increase as the plume’s strength increases. On the other hand, the velocity overshoot, the wall shear stress, and the temperature decrease as the free-stream velocity increases. For buoyancy opposing flow, the velocity and wall shear stress decrease but the temperature increases as the plume’s strength increases.


2008 ◽  
Vol 22 (30) ◽  
pp. 5289-5297 ◽  
Author(s):  
H. ARABSHAHI

An ensemble Monte Carlo simulation is used to compare bulk electron ballistic transport in 6H - SiC and GaN materials. Electronic states within the conduction band valleys at Γ1, U, M, Γ3, and K are represented by nonparabolic ellipsoidal valleys centered on important symmetry points of the Brillouin zone. The large optical phonon energy (~120 meV) and the large intervalley energy separation between the Γ and satellite conduction band valleys suggest an increasing role for ballistic electron effects in 6H - SiC , especially when compared with most III-V semiconductors such as GaAs . Transient velocity overshoot has been simulated, with the sudden application of fields up to ~5×107 Vm -1, appropriate to the gate-drain fields expected within an operational field effect transistor. A peak-saturation drift velocity ratio of 2:1 is predicted for 6H - SiC material while that for GaN is 4:1. The electron drift velocity relaxes to the saturation value of ~2×105 ms -1 within 3 ps, for both crystal structures. The transient velocity overshoot characteristics are in fair agreement with other recent calculations.


Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document