Image contrast dependence on the field emitter in near field emission scanning electron microscopy

Author(s):  
O. Scholder ◽  
T. L. Kirk ◽  
L. G. De Pietro ◽  
T. Bahler ◽  
U. Ramsperger ◽  
...  
Author(s):  
D.A. Zanin ◽  
H. Cabrera ◽  
L.G. De Pietro ◽  
M. Pikulski ◽  
M. Goldmann ◽  
...  

2014 ◽  
Author(s):  
Ανδρέας Κυριτσάκης

Η ηλεκτρονική μικροσκοπία εγγύς πεδίου (Near Field Emission Scanning Electron Microscopy-NFESEM) αποτελεί μία νέα μορφή ηλεκτρονικής μικροσκοπίας σάρωσης που αναπτύχθηκε τα τελευταία έξι χρόνια. Είναι πολλά υποσχόμενη καθώς έχει δυνατότητες λήψης εικόνων ηλεκτρονικού μικροσκοπίου σάρωσης (Scanning Electron Microscopy - SEM) με σχεδόν ισοδύναμη διακριτική ικανότητα χωρίς να χρησιμοποιεί ηλεκτρομαγνητικούς φακούς εστίασης, που αποτελούν σημαντικό κομμάτι του κόστους ενός SEM. Αυτό επιτυγχάνεται με τοποθέτηση της καθόδου σε απόσταση d μερικών nm από το δείγμα (στο SEM είναι της τάξης των cm) και χρήση εξαιρετικά αιχμηρών ακίδων-εκπομπών.Το χαρακτηριστικά αυτά του NFESEM γεννούν σημαντικά ερωτήματα ως προς τα βασικά χαρακτηριστικά της πεδιακής εκπομπής ηλεκτρονίων (Field Emission–FE), τα οποία η υπάρχουσα θεωρία FE αδυνατεί να απαντήσει επαρκώς. Στόχος αυτής της διδακτορικής διατριβής είναι να μελετήσει θεωρητικά την FE όταν η απόσταση d είναι πολύ μικρή (μερικά nm) και οι εκπομποί είναι εξαιρετικά αιχμηροί (ακτίνες καμπυλότητας R~1-20nm).Στο πρώτο κεφάλαιο αναπτύσσεται η υπάρχουσα θεωρία της FE (θεωρία Fowler-Nordheim ή F-N) και τα θεωρητικά εργαλεία που θα χρησιμοποιηθούν, στο δεύτερο οι τεχνολογικές εφαρμογές της FE με έμφαση στη λειτουργία του NFESEM. Στο τρίτο κεφάλαιο μελετάται η κατανομή του ρεύματος FE με έμφαση στην πρόβλεψη του εύρους της δέσμης του NFESEM, που καθορίζει τη διακριτική του ικανότητα. Χρησιμοποιώντας ελλειψοειδή για την προσομοίωση του εκπομπού και τρισδιάστατη θεωρία για το φαινόμενο σήραγγας επιτυγχάνεται η πρόβλεψη του εύρους της δέσμης τη NFESEM συναρτήσει των παραμέτρων λειτουργίας του η οποία είναι σε πολύ καλή συμφωνία με το πείραμα.Στο τέταρτο κεφάλαιο μελετώνται και εξηγούνται θεωρητικά οι ιδιότητες κλιμάκωσης τάσης-απόστασης του οργάνου που παρατηρήθηκαν πειραματικά. Αποδεικνύεται αριθμητικά και αλγεβρικά ότι το δυναμικό κοντά στον εκπομπό παραμένει αμετάβλητο για όλες τις αποστάσεις, αν πολλαπλασιαστεί η τάση με κατάλληλη σταθερά, σε συμφωνία με τις πειραματικές μετρήσεις τάσης-ρεύματος-απόστασης.Τέλος, στο πέμπτο κεφάλαιο γενικεύεται η θεωρία F-N. Ξεκινώντας από βασικές αρχές και εφαρμόζοντας προσεγγίσεις γενικής ισχύος, εξάγεται μία γενικευμένη εξίσωση «τύπου-F-N» για την περιγραφή της FE από αιχμηρές ακίδες. Με εφαρμογή της εξίσωσης σε πειραματικά δεδομένα εξάγεται αξιόπιστα η ακτίνα καμπυλότητας του εκπομπού.


Author(s):  
Yasushi Kokubo ◽  
Hirotami Koike ◽  
Teruo Someya

One of the advantages of scanning electron microscopy is the capability for processing the image contrast, i.e., the image processing technique. Crewe et al were the first to apply this technique to a field emission scanning microscope and show images of individual atoms. They obtained a contrast which depended exclusively on the atomic numbers of specimen elements (Zcontrast), by displaying the images treated with the intensity ratio of elastically scattered to inelastically scattered electrons. The elastic scattering electrons were extracted by a solid detector and inelastic scattering electrons by an energy analyzer. We noted, however, that there is a possibility of the same contrast being obtained only by using an annular-type solid detector consisting of multiple concentric detector elements.


Author(s):  
J. S. Shah ◽  
R. Durkin ◽  
A. N. Farley

It is now possible to perform High Pressure Scanning Electron Microscopy (HPSEM) in the range 10 to 2000 Pa. Here the effect of scattering on resolution has been evaluated by calculating the profile of the beam in high pressure and assessing its effect on the image contrast . An experimental scheme is presented to show that the effect of the primary beam ionization is to reduce image contrast but this effect can be eliminated by a novel use of specimen current detection in the presence of an electric field. The mechanism of image enhancement is discussed in terms of collection of additional carriers generated by the emissive components.High Pressure SEM (HPSEM) instrumentation is establishing itself as commercially viable. There are now a number of manufacturers, such as JEOL, ABT, ESCAN, DEBEN RESEARCH, selling microscopes and accessories for HPSEM. This is because high pressure techniques have begun to yield high quality micrographs at medium resolution.To study the effect of scattering on the incident electron beam, its profile - in a high pressure environment - was evaluated by calculating the elastic and inelastic scattering cross sections for nitrogen in the energy range 5-25 keV. To assess the effect of the scattered beam on the image contrast, the modification of a sharp step contrast function due to scattering was calculated by single scattering approximation and experimentally confirmed for a 20kV accelerated beam.


Sign in / Sign up

Export Citation Format

Share Document