Rapid thermal annealing effects on plasma deposited SiOx:H films
2002 ◽
Vol 67
(3-4)
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pp. 531-536
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E San Andrés
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A del Prado
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I Mártil
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G González Dı́az
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F.L Martinez
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2013 ◽
Vol 51
(9)
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pp. 691-699
Se-Young Choi
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Sung Jin Kim
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Kyoon Choi
1996 ◽
Vol 35
(Part 1, No. 8)
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pp. 4220-4224
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M. D. Kim
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T. W. Kang
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M. S. Han
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T. W. Kim
2002 ◽
Vol 92
(7)
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pp. 4129-4131
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H. Y. Huang
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J. Q. Xiao
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C. S. Ku
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H. M. Chung
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W. K. Chen
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De-Dui Liao
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Yih-Shung Lin
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Hong Yang
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Howard Witham
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Javier Saenz
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2015 ◽
Vol 83
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pp. 48-60
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R. Padma
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K. Shanthi Latha
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V. Rajagopal Reddy
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Chel-Jong Choi
1991 ◽
Vol 70
(4)
◽
pp. 2366-2369
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Jong‐Sung Hong
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Yong Tae Kim
◽
Suk‐Ki Min
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Tae Won Kang
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Chi Yhou Hong
2015 ◽
Vol 11
(1)
◽
pp. 73-81
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V. Rajagopal Reddy
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D. Sri Silpa
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V. Janardhanam
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Hyung-Joong Yun
◽
Chel-Jong Choi
1997 ◽
Vol 293
(1-2)
◽
pp. 196-199
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M.S. Han
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Y.S. Ryu
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B.K. Song
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T.W. Kang
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T.W. Kim
2000 ◽
Vol 87
(3)
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pp. 1187-1192
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E. San Andrés
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A. del Prado
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F. L. Martı́nez
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I. Mártil
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D. Bravo
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2011 ◽
Vol 49
(5)
◽
pp. 549-554
◽
Yue Zhao
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Mintao Zhou
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Zhiyong Lv
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Zhao Li
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Jian Huang
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