Thermal-Annealing Effects on Dopant Redistribution in Nanoscale Si Fin

2011 ◽  
Vol 50 (7R) ◽  
pp. 076506 ◽  
Author(s):  
Takashi Izumida ◽  
Kimitoshi Okano ◽  
Takahisa Kanemura ◽  
Masaki Kondo ◽  
Satoshi Inaba ◽  
...  
2011 ◽  
Vol 50 (7) ◽  
pp. 076506
Author(s):  
Takashi Izumida ◽  
Kimitoshi Okano ◽  
Takahisa Kanemura ◽  
Masaki Kondo ◽  
Satoshi Inaba ◽  
...  

1996 ◽  
Vol 35 (Part 1, No. 8) ◽  
pp. 4220-4224 ◽  
Author(s):  
M. D. Kim ◽  
T. W. Kang ◽  
M. S. Han ◽  
T. W. Kim

2002 ◽  
Vol 92 (7) ◽  
pp. 4129-4131 ◽  
Author(s):  
H. Y. Huang ◽  
J. Q. Xiao ◽  
C. S. Ku ◽  
H. M. Chung ◽  
W. K. Chen ◽  
...  

2015 ◽  
Vol 1 ◽  
pp. 8 ◽  
Author(s):  
Juan Huguet-Garcia ◽  
Aurélien Jankowiak ◽  
Sandrine Miro ◽  
Renaud Podor ◽  
Estelle Meslin ◽  
...  

2016 ◽  
Vol 176 ◽  
pp. 40-46 ◽  
Author(s):  
A. Coyopol ◽  
M.A. Cardona ◽  
T. Díaz Becerril ◽  
L. Licea Jimenez ◽  
A. Morales Sánchez

2011 ◽  
Vol 257 (13) ◽  
pp. 5519-5523 ◽  
Author(s):  
Lida Wang ◽  
Guichang Liu ◽  
Longjiang Zou ◽  
Dongfeng Xue

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