plasma cvd
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Carbon ◽  
2022 ◽  
Author(s):  
Victor Ralchenko ◽  
Vadim Sedov ◽  
Artem Martyanov ◽  
Valery Voronov ◽  
Sergey Savin ◽  
...  

2021 ◽  
Vol 4 (2) ◽  
pp. 68-71
Author(s):  
S. A. Razak ◽  
N. N. Nordin ◽  
M. A. Sulaiman ◽  
M. Yusoff ◽  
M. N. Masri

Development of carbon nanotubes was done by several methods like arc discharge, laser ablation, silane solution, flame synthesis method but the standard or famous technique using chemical vapor deposition (CVD). CVD is one of the approaches to develop CNT, due to easy control of the reaction course and high purity of the obtained materials. Various type of CVD present like thermal CVD, plasma enhanced CVD, or microwave plasma CVD. These kinds of types give the different advantage and drawbacks to the production of CNT and its preparations.


2021 ◽  
Vol 34 (03) ◽  
pp. 15-30
Author(s):  
Léster Espinoza-Pérez ◽  
Eddie López-Honorato
Keyword(s):  

Este trabajo informa sobre pruebas preliminares llevadas a cabo para la deposición de recubrimientos de circona sobre sustratos de acero inoxidable mediante la técnica de Deposición Química de Vapor asistida por Plasma (PECVD). La deposición de circona mediante esta técnica permite el control de variables tales como temperatura de deposición, potencia del plasma, presión de operación, cantidad de precursor disponible para la formación de especies precursoras en fase gaseosa, flujo volumétrico de gas de arrastre y de gas oxidante y temperatura de evaporación del precursor. Una variable que no opere en su punto óptimo es suficiente para no obtener depósitos de circona, u obtener depósitos heterogéneos sobre la superficie del sustrato. Preliminarmente se realizaron deposiciones a 500 y 900 °C, variando la potencia del plasma entre 100-250 W y la temperatura de evaporación del precursor a 80 y 120 °C. Se obtuvieron películas homogéneas a 500 °C/250 W/120 °C de evaporación. Sin embargo, el incremento en la temperatura de evaporación del precursor de 80-120 ºC a 200 °C mejoró la eficiencia en la deposición. También se determinó que la posición óptima del sustrato está en el centro de la zona de calentamiento del horno, y que la temperatura de deposición y el % de oxígeno en el plasma influye directamente en la morfología y estructura cristalina obtenida. Estos resultados preliminares constituyeron el punto de partida para evaluar la influencia de otras variables sobre la composición química, estructura cristalina, morfología y grosor de recubrimientos de circona estabilizada con itria (YSZ).


2021 ◽  
Vol 116 ◽  
pp. 108394
Author(s):  
Justas Zalieckas ◽  
Paulius Pobedinskas ◽  
Martin Møller Greve ◽  
Kristoffer Eikehaug ◽  
Ken Haenen ◽  
...  

2020 ◽  
Author(s):  
Jumpei Kihara ◽  
Yuki Okigawa ◽  
Masatou Ishihara ◽  
Setsuko Koura

Most thermoelectric materials that convert waste heat into electric power are inorganic materials, which poses problems in terms of flexibility and environmental load. Graphene is a carbon material with a two-dimensional structure and is expected to be a new thermoelectric material because it has peculiar electrical characteristics while having flexibility. In this study, as a result of investigating the thermoelectric properties of high-quality bilayer graphene synthesized by plasma CVD, the Seebeck coefficient was 70 μV/K and the power factor was 2,960 mW/mK^2. In addition, as a result of an experiment in which potassium was electrochemically intercalated into two-layer graphene, the Seebeck coefficient was improved, but the electrical conductivity was reduced. A slight negative shift of the Dirac point was seen in the measurement of electrical properties.


Vacuum ◽  
2020 ◽  
Vol 178 ◽  
pp. 109410
Author(s):  
S. Peter ◽  
R. Ehrler ◽  
T. Seyller ◽  
F. Speck
Keyword(s):  

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